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Durham Microwriter ML3 無掩膜光刻機

  • 品牌:英國Durham Magneto Optic
  • 型號: ML3
  • 產地:英國
  • 供應商報價: 面議
  • Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向zui高精度100 nm,方便快捷。[查看全部]
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深圳市藍星宇電子科技有限公司

主營產品:光刻機/3D打印機,鍍膜沉積機,離子刻蝕與沉積系統,半導能檢測儀器,UV清洗設備

詳細介紹

Durham Microwriter ML3 小型臺式無掩膜光刻系統
小型臺式無掩膜光刻系統是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發,為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供,但是在研發環境中,掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板 的方法,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

    Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統,具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

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產品特點
 

Focus Lock自動對焦功能 

Focus lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調整和補償,以保證曝光分辨率。

光學輪廓儀 

Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向zui高精度100 nm,方便快捷。

標記物自動識別

點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。

別直寫前預檢查

軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度,直到設計圖形按要求與有結構重合,保證直寫準確。

簡單的直寫軟件

MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。

Clewin 掩模圖形設計軟件 

?可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
?可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
?書寫范圍只由基片尺寸決定


 

產品參數

Microwriter ML3    基本型        增強型          旗艦型
 最大樣品尺寸  155×155×7mm    155×155×7mm     230×230×15mm
 最大直寫面積  149mm x 149mm    149mm x 149mm     195mm x 195mm
 曝光光源    405 nm LED 1.5W   405 nm LED 1.5W    385 nm LED 適用于SU-8(365+405nm雙光源可選)
 直寫分辨率      1μm       1μm and 5μm      0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
 直寫速度    20mm2/min @ 1μ m  20mm2/min @ 1μm
                        120mm2/min @ 5μm     25mm2/min @ 0.6μm
                                        50mm2/min @ 1μm
                                        100mm2/min @ 2μm
                                        180mm2/min @ 5μm
 對準顯微鏡鏡頭    x10       x3 and x10 自動切換    x3, x5, x10, x20 自動切換
 多層套刻精度     ±1μm          ±1μm            ±0.5μm 
 最小柵格精度     200nm           200nm             100nm
 樣品臺最小步長    100nm           100nm            50nm
 光學輪廓Z分辨率   無(可升級)        300nm            100nm
 樣品表面自動對焦    是            是              是
 灰度直寫(255級)     是            是              是
 自動晶片檢查工具    無(可升級)       有              有
 溫控樣品腔室       無 (可升級)      無 (可升級)         有
 虛擬模板校準工具    無(可升級)      無(可升級)          有
 氣動減震光學平臺    無(可升級)      無(可升級)          有


 

應用案例

直寫分辨率1μm

直寫分辨率0.6μm

微電極制備

 

微結構制備

微流通道制備


產品優勢

Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向zui高精度100 nm,方便快捷。

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